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主题：蚀刻混和气

admin 等　　级:管理员 经 验 值:811 社区金币:811 总发贴数:97 注册时间:2006/2/26 状　　态:离线

信息 短讯 邮箱 好友 搜索 引用 回复 No.1 蚀刻混和气  蚀刻就是将基片上无光刻胶掩蔽的加工表面(如金属膜、氧化硅膜等)蚀刻掉，而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来，以便在基片表面上获得所需要的成像图形。     蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法化学蚀刻所用气体称为蚀刻气体。蚀刻气体通常多为氟化物气体(卤化物类)，例如四氟化碳、三氟化氮、三氟甲烷、六氟乙烷、全氟丙烷等。 ［此帖子已被 admin 在 2006-04-01 14:23:25 编辑过］ 编辑 删除 发表时间：2006/3/30 21:31:15　 IP： 218.104.88.150

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