特种气体论坛－江苏省计量测试技术研究所 → 气体技术 → 技术文献 → 外延(生长)混合气

发表新主题 回复帖子

您是本帖第 2951 个阅读者

主题：外延(生长)混合气

admin 等　　级:管理员 经 验 值:811 社区金币:811 总发贴数:97 注册时间:2006/2/26 状　　态:离线

信息 短讯 邮箱 好友 搜索 引用 回复 No.1 外延(生长)混合气   在半导体工业中，在仔细选择的衬底上选用化学气相淀积的方法，生长一层或多层材料所用的气体口U做外延气体。常用的硅外延气体有二氯二氢硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀积，多晶硅淀积，氧化硅膜淀积，氮化硅膜淀积，太阳能电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积等。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。 ［此帖子已被 admin 在 2006-03-30 21:21:40 编辑过］ 编辑 删除 发表时间：2006/3/30 21:20:17　 IP： 218.104.88.150

【苏ICP备07011048号】 Powered by 红健气体有限公司  © 2006-2008 Script Execution Time:58ms